白谷 正治 (SHIRATANI Masaharu)

九州大学高等研究院長

九州大学 システム情報科学研究院  主幹教授



専門分野
プラズマ理工学

学歴

昭和58年 3月

九州大学工学部電気工学科 卒業

昭和60年 3月

九州大学大学院工学研究科修士課程修了

昭和63年 3月

九州大学大学院工学研究科博士課程単位取得退学

平成 2年 4月

工学博士(九州大学)

職歴

昭和63年 4月

九州大学工学部助手

平成 2年 8月

九州大学工学部助教授

平成 8年 3月~平成 9年 1月

フランス国立航空研究所 訪問研究員

平成 8年 5月

九州大学大学院システム情報科学研究科助教授

平成12年 4月

九州大学大学院システム情報科学研究院助教授

平成18年 2月

九州大学大学院システム情報科学研究院教授

平成21年10月

九州大学主幹教授

平成22年10月

九州大学プラズマナノ界面工学センター センター長

平成30年 4月~令和 3年 3月

九州大学大学院システム情報科学研究院長

令和 2年12月

九州大学大学院システム情報科学研究院附属光・量子プロセス研究開発センター センター長

令和 3年 4月

九州大学高等研究院長

学術賞・受章

平成25年度

応用物理学会フェロー

平成27年度

プラズマ材料科学賞

平成28年度

プラズマエレクトロニクス賞

主要業績

  • C. Suriyasak, K. Hatanaka, H. Tanaka, T. Okumura, D. Yamashita, P. Attri, K. Koga, M. Shiratani, N. Hamaoka, Y. Ishibashi, Alterations of DNA Methylation Caused by Cold Plasma Treatment Restore Delayed Germination of Heat-Stressed Rice (Oryza sativa L.) Seeds, ACS Agricultural Science & Technology 1 (1), 5-10 (2021).
  • N. Itagaki, Y. Nakamura, R. Narishige, K. Takeda, K. Kamataki, K. Koga, Growth of single crystalline films on lattice-mismatched substrates through 3D to 2D mode transition, Scientific reports 10 (1), 1-10 (2020).
  • S. Toko, S. Tanida, K. Koga, M. Shiratani, Low-Pressure Methanation of CO2 Using a Plasma–Catalyst System, Science of Advanced Materials 10 (8), 1087-1090 (2018).
  • N. Puač, M. Gherardi, M. Shiratani, Plasma agriculture: A rapidly emerging field, Plasma Processes and Polymers 15 (2), 1700174 (2018).
  • M. Ito, J.S. Oh, T. Ohta, M. Shiratani, M. Hori, Current status and future prospects of agricultural applications using atmospheric‐pressure plasma technologies, Plasma Processes and Polymers 15 (2), 1700073 (2018).
  • M. Shiratani, K. Koga, S. Iwashita, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki, Nano-factories in plasma: present status and outlook, Journal of Physics D: Applied Physics 44 (17), 174038 (2011).
  • M. Shiratani, K. Koga, S. Iwashita, S. Nunomura, Rapid transport of nano-particles having a fractional elementary charge on average in capacitively-coupled rf discharges by amplitude-modulating discharge voltage, Faraday discussions 137, 127-138 (2008).
  • M. Shiratani, K. Koga, S. Ando, T. Inoue, Y. Watanabe, S. Nunomura, Single step method to deposit Si quantum dot films using H2+ SiH4 VHF discharges and electron mobility in a Si quantum dot solar cell, Surface and Coatings Technology 201 (9-11), 5468-5471 (2007).
  • M. Shiratani, J. Jolly, H. Videlot, J. Perrin, Surface reaction kinetics of CH3 in CH4 RF discharge studied by time-resolved threshold ionization mass spectrometry, Japanese journal of applied physics 36 (7S), 4752 (1997).
  • Y. Watanabe, M. Shiratani, Y. Kubo, I. Ogawa, S. Ogi, Effects of low‐frequency modulation on rf discharge chemical vapor deposition, Applied physics letters 53 (14), 1263-1265 (1988).