メンバー Member
高等研究院長
白谷 正治
SHIRATANI Masaharu
九州大学高等研究院長
専門分野
プラズマ理工学
九州大学大学院システム情報科学研究院 教授
（九州大学 主幹教授）
（九州大学 主幹教授）
学歴
- 昭和58年 3月
- 九州大学工学部電気工学科 卒業
- 昭和60年 3月
- 九州大学大学院工学研究科修士課程修了
- 昭和63年 3月
- 九州大学大学院工学研究科博士課程単位取得退学
- 平成 2年 4月
- 工学博士（九州大学）
職歴
- 昭和63年 4月
- 九州大学工学部助手
- 平成 2年 8月
- 九州大学工学部助教授
- 平成 8年 3月～平成 9年 1月
- フランス国立航空研究所 訪問研究員
- 平成 8年 5月
- 九州大学大学院システム情報科学研究科助教授
- 平成12年 4月
- 九州大学大学院システム情報科学研究院助教授
- 平成18年 2月
- 九州大学大学院システム情報科学研究院教授
- 平成21年10月
- 九州大学主幹教授
- 平成22年10月
- 九州大学プラズマナノ界面工学センター センター長
- 平成30年 4月～令和 3年 3月
- 九州大学大学院システム情報科学研究院長
- 令和 2年12月
- 九州大学大学院システム情報科学研究院附属光・量子プロセス研究開発センター センター長
- 令和 3年 4月
- 九州大学高等研究院長
学術賞・受章
- 平成25年度
- 応用物理学会フェロー
- 平成27年度
- プラズマ材料科学賞
- 平成28年度
- プラズマエレクトロニクス賞
主要業績
- C. Suriyasak, K. Hatanaka, H. Tanaka, T. Okumura, D. Yamashita, P. Attri, K. Koga, M. Shiratani, N. Hamaoka, Y. Ishibashi, Alterations of DNA Methylation Caused by Cold Plasma Treatment Restore Delayed Germination of Heat-Stressed Rice (Oryza sativa L.) Seeds, ACS Agricultural Science & Technology 1 (1), 5-10 (2021).
- N. Itagaki, Y. Nakamura, R. Narishige, K. Takeda, K. Kamataki, K. Koga, Growth of single crystalline films on lattice-mismatched substrates through 3D to 2D mode transition, Scientific reports 10 (1), 1-10 (2020).
- S. Toko, S. Tanida, K. Koga, M. Shiratani, Low-Pressure Methanation of CO2 Using a Plasma–Catalyst System, Science of Advanced Materials 10 (8), 1087-1090 (2018).
- N. Puač, M. Gherardi, M. Shiratani, Plasma agriculture: A rapidly emerging field, Plasma Processes and Polymers 15 (2), 1700174 (2018).
- M. Ito, J.S. Oh, T. Ohta, M. Shiratani, M. Hori, Current status and future prospects of agricultural applications using atmospheric‐pressure plasma technologies, Plasma Processes and Polymers 15 (2), 1700073 (2018).
- M. Shiratani, K. Koga, S. Iwashita, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki, Nano-factories in plasma: present status and outlook, Journal of Physics D: Applied Physics 44 (17), 174038 (2011).
- M. Shiratani, K. Koga, S. Iwashita, S. Nunomura, Rapid transport of nano-particles having a fractional elementary charge on average in capacitively-coupled rf discharges by amplitude-modulating discharge voltage, Faraday discussions 137, 127-138 (2008).
- M. Shiratani, K. Koga, S. Ando, T. Inoue, Y. Watanabe, S. Nunomura, Single step method to deposit Si quantum dot films using H2+ SiH4 VHF discharges and electron mobility in a Si quantum dot solar cell, Surface and Coatings Technology 201 (9-11), 5468-5471 (2007).
- M. Shiratani, J. Jolly, H. Videlot, J. Perrin, Surface reaction kinetics of CH3 in CH4 RF discharge studied by time-resolved threshold ionization mass spectrometry, Japanese journal of applied physics 36 (7S), 4752 (1997).
- Y. Watanabe, M. Shiratani, Y. Kubo, I. Ogawa, S. Ogi, Effects of low‐frequency modulation on rf discharge chemical vapor deposition, Applied physics letters 53 (14), 1263-1265 (1988).